專利規(guī)避設(shè)計(jì)(Design Around)，又稱專利回避設(shè)計(jì)。規(guī)避設(shè)計(jì)的出發(fā)點(diǎn)是在法律層面上繞開已有專利權(quán)的保護(hù)范圍，避免潛在的法律風(fēng)險(xiǎn)，其核心在于技術(shù)方案的差異化設(shè)計(jì)。規(guī)避設(shè)計(jì)不僅是預(yù)防和應(yīng)對專利侵權(quán)的重要手段，也是一種行之有效的研發(fā)手段以及專利挖掘的重要途徑。

　　通常，專利規(guī)避設(shè)計(jì)可遵循“簡化”和“替代”這兩項(xiàng)基本原則。簡化原則通過對在先專利的技術(shù)方案構(gòu)成要件進(jìn)行刪減，使得改型方案缺少其中一個(gè)或多個(gè)構(gòu)件要件以避免專利侵權(quán);替代原則則是通過改變在先方案中的一個(gè)或多個(gè)構(gòu)成要件，使得改型方案中一個(gè)或多個(gè)技術(shù)特征與在先專利的技術(shù)特征不相同也不等同，從而避免專利侵權(quán)。

　　不同領(lǐng)域的專利規(guī)避設(shè)計(jì)，因其技術(shù)構(gòu)成要素不同，改型的側(cè)重點(diǎn)也有所不同。針對機(jī)械或電子產(chǎn)品的規(guī)避設(shè)計(jì)，通常從零部件(例如：功能近似的不同元件、削減元件相應(yīng)減少功能…)、組裝方式(固定式/可拆卸式組裝…)、連接關(guān)系(直接連接/間接連接…)、控制方法(控制條件、操作步驟)這幾個(gè)構(gòu)成要件來考慮。

　　而材料、化學(xué)及醫(yī)藥領(lǐng)域的產(chǎn)品通常為特定組分的組合物或者化合物，其技術(shù)方案的構(gòu)成要件包括產(chǎn)品的組成成分、組分之間的配比、以及產(chǎn)品在通常狀態(tài)下所呈現(xiàn)出的固態(tài)、液態(tài)或者氣態(tài)的形態(tài)，規(guī)避設(shè)計(jì)通常會(huì)考慮組分及其配比的不同，同時(shí)，也嘗試采用不同的產(chǎn)品形態(tài)，考慮不同的制備工藝。

　　外觀設(shè)計(jì)類產(chǎn)品多針對產(chǎn)品所呈現(xiàn)的形狀、色彩、圖案及其組合進(jìn)行該改型，也可嘗試將現(xiàn)有設(shè)計(jì)應(yīng)用于不同類別的產(chǎn)品。

　　針對規(guī)避設(shè)計(jì)進(jìn)行專利挖掘的首要步驟是明確規(guī)避目的、確定規(guī)避主題，在此前提下進(jìn)行針對性的專利檢索和技術(shù)分析，提出差異性的設(shè)計(jì)方案，經(jīng)過方案評估，最終得到規(guī)避設(shè)計(jì)方案和相應(yīng)的專利申請。